近日，美国泛林公司宣布与 ASML 阿斯麦、 IMEC 比利时微电子中心合作开发了新的 EUV 光刻技术，不仅提高了 EUV 光刻的良率、分辨率及产能，还将光刻胶的用量最多降至原来的 1/10 ，大幅降低了成本。 泛林 Lam Research 的名字很多人不清楚， 前不久中芯国际宣布的 6 亿美元半导体设备订单就是购买的泛林的产品 。 泛林是一家美国公司，也是全球半导体装备行业的巨头之一，与应用材料、 KLA 科磊齐名， 2019 年营收 95 亿美元，在全球半导体装备行业位列第四，仅次于

在EUV光刻机方面，荷兰ASML（阿斯麦）公司垄断了目前的EUV光刻机，去年出货26台，创造了新纪录。据报道，ASML公司正在研发新一代EUV光刻机，预计在2022年开始出货。根据ASML之前的报告，去年他们出货了26台EUV光刻机，预计2020年交付35台EUV光刻机，2021年则会达到45台到50台的交付量，是2019年的两倍左右。目前ASML出货的光刻机主要是NXE:3400B及改进型的NXE:3400C，两者基本结构相同，但NXE:3400C采用模块化设计，维护更加便捷，平均维修时间将